鍍膜材料一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。

　　膜系的特性取決于構(gòu)成膜系的材料。比如，氧化物層一般比氟化物、硫化物或半導(dǎo)體層硬得多，因而，氧化物層適合于在外表面使用。 在溫度范圍很寬的情況下，濾光片應(yīng)避免使用半導(dǎo)體膜層，因?yàn)榘雽?dǎo)體的光學(xué)常數(shù)隨溫度變化很大。對(duì)于某些金屬材料，由于強(qiáng)度很低，易造成損傷，暴露在大氣中，也容易氧化。對(duì)于這樣的膜層要加保護(hù)層，或者將其膠合在兩個(gè)透明板之間。對(duì)于其他材料，鍍膜時(shí)為了保證膜層與基底很好地粘合，需要在基底上鍍附著層。比如，在玻璃基底上鍍金(Au)膜之前，常常先在玻璃上鍍鎳(Ni)附著層。

　　真空鍍膜適用于金屬、樹(shù)脂、塑料（ABS、發(fā)泡塑料、回收塑料）、玻璃（水晶）、陶瓷、 亞克力、木材、水泥、磷鎂等各種材料?？蓮V泛應(yīng)用于汽車、電器、工藝品、電腦手機(jī)、飾品、家具等多種表面裝飾行業(yè)，由此可誕生出多種新的裝飾行業(yè)。

　　非導(dǎo)電樣品絕緣電阻大，在電子束的連續(xù)掃描下，樣品表面逐漸積累負(fù)電荷，形成相當(dāng)高的負(fù)電場(chǎng)，排斥入射電子，二次電子發(fā)射不穩(wěn)定，并隨機(jī)偏轉(zhuǎn)二次電子軌跡，影響探測(cè)器接收，造成圖像晃動(dòng)、亮度突變、出現(xiàn)無(wú)規(guī)則的明暗條紋，這就是所謂的“荷電效應(yīng)”，也稱“充電效應(yīng)”。通常鍍一層導(dǎo)電薄膜可以提高樣品的導(dǎo)電性，表面的負(fù)電荷通過(guò)導(dǎo)電膜釋放入地，消除荷電現(xiàn)象。電荷釋放的前提是膜層與金屬樣品臺(tái)相連接，形成導(dǎo)電通道。連續(xù)的導(dǎo)電膜也可以提高樣品的導(dǎo)熱性，減小熱損傷。目前實(shí)驗(yàn)室常用的鍍膜技術(shù)為真空蒸發(fā)和離子濺射。

　　導(dǎo)電膜層應(yīng)該具有二次電子產(chǎn)率高和良好的覆蓋性，并且膜層均勻，在電子束下穩(wěn)定。這層膜能夠把樣品表面的微觀細(xì)節(jié)如實(shí)地反映出來(lái)，并能有效地改善圖像質(zhì)量。通常采用的鍍膜材料有C、Al、Cr、Au、Pt、Au-Pd合金。 其中Au 膜二次電子產(chǎn)率高、覆蓋性好、鍍膜容易，是常用的材料，但是 膜顆粒較大，高倍下觀察到明顯的“島狀結(jié)構(gòu)”這是一種裝飾假象。鍍Au適用于中低范圍的分辨率、兩萬(wàn)倍以下的圖像。Pt和Au-Pd合金膜的顆粒要細(xì)得多，適于高分辨率圖像，使用場(chǎng)發(fā)射電鏡對(duì)膜層要求更高，要求至少在20萬(wàn)倍下膜層不能顯現(xiàn)結(jié)構(gòu)，高真空鍍Cr可以滿足要求。C膜均勻性好、導(dǎo)電導(dǎo)熱效率高，又是經(jīng)濟(jì)的材料，只是C膜的二次電子產(chǎn)率低，不適合高倍圖像。