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真空鍍膜加工的光學(xué)技術(shù)

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真空鍍膜加工的光學(xué)技術(shù)

發(fā)布日期:2020-07-17 00:00:00 作者: 點(diǎn)擊:0

     真空鍍膜加工市場(chǎng)很大,現(xiàn)在手機(jī)光學(xué)鍍膜,還有一些高科技的光學(xué)儀器和裝備都離不開(kāi),市場(chǎng)很大,現(xiàn)在進(jìn)口的真空鍍膜機(jī)比較精密和先進(jìn),國(guó)產(chǎn)的鍍膜機(jī)也還能夠。如果你仔細(xì)觀察,許多東西是鍍膜的,包過(guò)太陽(yáng)鏡鍍膜,眼鏡片鍍膜,攝像頭鍍膜,手機(jī)鏡片膜片鍍膜等,都是離不開(kāi)的。

        真空鍍膜中用到的離子源種類(lèi)較多。主要有:高頻離子源,弧放電離子源,離子源,射頻離子源,霍爾離子源,冷陰極離子源,電子回旋離子源,陽(yáng)極層離子源,感應(yīng)耦合離子源可能還有很多其它類(lèi)型離子源未被提到。

  離子源類(lèi)型雖多,目的卻無(wú)非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度,同時(shí)膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會(huì)改善。

  高頻離子源

  利用稀薄氣體中的高頻放電現(xiàn)象使氣體電離,一般用來(lái)產(chǎn)生低電荷態(tài)正離子,有時(shí)也從中引出負(fù)離子,作為負(fù)離子源使用。

真空鍍膜加工

  在高頻電場(chǎng)中,自由電子與氣體中的原子(或分子)碰撞,并使之電離。帶電粒子倍增的結(jié)果,形成無(wú)極放電,產(chǎn)生大量等離子體。高頻離子源的放電管一般用派勒克斯玻璃或石英管制作。高頻場(chǎng)可由管外螺線管線圈產(chǎn)生,也可由套在管外的環(huán)形電極產(chǎn)生。前者稱(chēng)為電感耦合,后者稱(chēng)為電容耦合高頻振蕩器頻率為10 ~10 Hz,輸出功率在數(shù)百瓦以上。

  從高頻離子源中引出離子可有兩種方式。一種是在放電管頂端插入一根鎢絲作為正極,在放電管尾端裝一帶孔負(fù)電極,并把該孔做成管形,從中引出離子流。另一種方式是把正極做成帽形,裝在引出電極附近,而放電區(qū)則在它的另一側(cè)。不管采用哪種引出方式,金屬電極都要用石英或玻璃包起來(lái),以減少離子在金屬表面的復(fù)合。

  在高頻放電區(qū)域中加有恒定磁場(chǎng)時(shí),由于共振現(xiàn)象可提高放電區(qū)域中的離子濃度。有時(shí),還在引出區(qū)域加非均勻磁場(chǎng)來(lái)改善引出。

  弧放電離子源

  在均勻磁場(chǎng)中,由陰極熱發(fā)射電子維持氣體放電的離子源。為了減少氣耗,放電區(qū)域往往是封閉的。陽(yáng)極做成筒形,軸線和磁場(chǎng)方向平行。磁場(chǎng)能很好地約束陰極所發(fā)射的電子流,在陽(yáng)極腔中使氣體的原子(或分子)電離,形成等離子體密度很高的弧柱。離子束可以垂直于軸線方向的側(cè)向引出,也可以順著軸線方向引出。

  陽(yáng)極層離子源

  若是鍍工具耐磨層,一般厚度較大而對(duì)膜厚均勻性要求不高,可采用離子電流較大能級(jí)也較高的離子源,如霍爾離子源或陽(yáng)極層離子源。陽(yáng)極層離子源,與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形(長(zhǎng)方形或圓形)窄縫中施加強(qiáng)磁場(chǎng),在陽(yáng)極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽(yáng)極層離子源可以做得很大很長(zhǎng),特別適合鍍大工件,如建筑玻璃。陽(yáng)極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發(fā)散,且能級(jí)分布太寬。一般適用于大型工件,玻璃,磨損,裝飾工件。但應(yīng)用于高等光學(xué)鍍膜并不太多。


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