真空鍍膜加工的常用辦法

　　真空鍍膜加工的辦法許多：

　　（1）真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣到達(dá)約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。

　　（2）陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體（如氬）通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子碰擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子經(jīng)過惰性氣氛堆積到基體上形成膜。

　?。?）化學(xué)氣相堆積：經(jīng)過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，取得堆積薄膜的進(jìn)程。

　?。?）離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。