真空鍍膜和光學鍍膜有什么差異

　　一、概念的差異

　　1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬資料，使其蒸騰并凝聚于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）外表而構(gòu)成薄膜的一種辦法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

　　2、光學鍍膜是指在光學零件外表上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝進程。在光學零件外表鍍膜的意圖是為了到達減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

　　二、原理的差異

　　1、真空鍍膜是真空應用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為根底，使用物理或化學辦法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)供給薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸騰或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝聚并堆積的辦法。

　　2、光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術(shù)的遍及辦法是憑借真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來操控基板對入射光束的反射率和透過率，以滿意不同的需求。為了消除光學零件外表的反射丟失，進步成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層通明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。

　　跟著激光技術(shù)的開展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的開展。為各種應用需求，使用高反射膜制作偏振反光膜、五顏六色分光膜、寒光膜和干涉濾光片等。光學零件外表鍍膜后，光在膜層層上屢次反射和透射，構(gòu)成多光束干涉，操控膜層的折射率和厚度，能夠得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。

　　三、辦法和資料的差異

　　1、真空鍍膜的辦法資料：

　　(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽暇后將膜料加熱到高溫，使蒸氣到達約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體外表，凝聚而成薄膜。

　　(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽暇的室內(nèi)，堅持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子碰擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛堆積到基體上構(gòu)成膜。

　　(3)化學氣相堆積：通過熱分化所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得堆積薄膜的進程。

　　(4)離子鍍：實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合，兼有兩者的工藝特色。表6-9列出了各種鍍膜辦法的優(yōu)缺點。

　　2、光學鍍膜辦法資料

　　(1)氟化鎂：無色四方晶系粉末，純度高，用其制備光學鍍膜可進步透過率，不出崩點。

　　(2)二氧化硅：無色通明晶體，熔點高，硬度大，化學穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸騰狀況好，不呈現(xiàn)崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

　　(3)氧化鋯：白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài)，具有高的折射率和耐高溫功能，化學性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜，不出崩點。