光學(xué)鍍膜基本原理

　　光的干與在薄膜光學(xué)中廣泛運用。光學(xué)薄膜技能的廣泛方法是憑仗真空濺射的方法在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿意不同的需求。為了消除光學(xué)零件外表的反射丟失，行進成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層通明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。跟著激光技能的打開，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的打開。為各種運用需求，運用高反射膜制作偏振反光膜、五顏六色分光膜、寒光膜和干與濾光片等。

　　光學(xué)零件外表鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，構(gòu)成多光束干與，控制膜層的折射率和厚度，能夠得到不同的強度散布，這是干與鍍膜的基本原理。