PVD鍍膜工藝是目前3C電子等領(lǐng)域應(yīng)用的主流工藝之一，近期華為發(fā)布的P20極光色手機(jī)，就是采用了PVD真空漸變鍍膜工藝，引領(lǐng)了新一代漸變色鍍膜工藝的浪潮。

典型的PVD真空漸變鍍膜就是華為P20了，是直接在曲面玻璃蓋板上進(jìn)行多層光學(xué)鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)漸變結(jié)構(gòu)色。

華為P20漸變效果是通過(guò)濺射成膜時(shí)改變玻璃基片上中下區(qū)域的成膜厚度（形成遞增或遞減的變化），從而形成特定的彩虹色光帶，難點(diǎn)就在于光譜色的漸變區(qū)間非常難把控，需要不停調(diào)整濺射機(jī)內(nèi)部的修正板控制玻璃不同區(qū)域的光學(xué)厚度

濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜的對(duì)比： 

濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應(yīng)用，因此，對(duì)濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場(chǎng)應(yīng)用量最大的 PVD 鍍膜材料。 蒸發(fā)鍍膜簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快。從工藝制造角度上來(lái)看，蒸鍍材料的制造復(fù)雜度要遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于濺射靶材，蒸發(fā)鍍膜常用于小尺寸基板材料的鍍膜。

競(jìng)爭(zhēng)格局

平板顯示器主要包括液晶顯示器（LCD）、等離子顯示器（PDP）、場(chǎng)致發(fā)光顯示器（EL）、場(chǎng)發(fā)射顯示器（FED）、有機(jī)發(fā)光二極管顯示器（OLED）以及在 LCD 基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的觸控（TP）顯示產(chǎn)品。 其中，市場(chǎng)應(yīng)用以液晶顯示器為主。鍍膜是現(xiàn)代平板顯示產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)環(huán)節(jié)，為保證大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率和降低成本，幾乎所有類型的平板顯示器件都會(huì)使用大量的鍍膜材料來(lái)形成各類功能薄膜，其所使用的 PVD 鍍膜材料主要為濺射靶材，平板顯示器的很多性能如分辨率、透光率等都與濺射薄膜的性能密切相關(guān)。 

平板顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個(gè)產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)使用 PVD 鍍膜材料。其中，平板顯示面板的生產(chǎn)工藝中，玻璃基板要經(jīng)過(guò)多次濺射鍍膜形成 ITO 玻璃，然后再經(jīng)過(guò)鍍膜，加工組裝用于生產(chǎn) LCD 面板、PDP 面板及 OLED 面板等。觸控屏的生產(chǎn)，則還需將 ITO 玻璃進(jìn)行加工處理、經(jīng)過(guò)鍍膜形成電極，再與防護(hù)屏等部件組裝加工而成。 此外，為了實(shí)現(xiàn)平板顯示產(chǎn)品的抗反射、消影等功能，還可以在鍍膜環(huán)節(jié)中增加相應(yīng)膜層的鍍膜。 

在OLED 工藝中，TFT 陣列和 Cell 成盒兩個(gè)階段包含眾多復(fù)雜工藝，關(guān)鍵設(shè)備（TFT 設(shè)備、蒸鍍?cè)O(shè)備和封裝設(shè)備）幾乎被日本、韓國(guó)和美國(guó)所壟斷，且設(shè)備價(jià)格昂貴，其中蒸鍍?cè)O(shè)備是整個(gè)面板生產(chǎn)過(guò)程中最核心的環(huán)節(jié)，直接影響到制成品的良率和質(zhì)量，目前市場(chǎng)上的蒸鍍?cè)O(shè)備由日、韓兩國(guó)壟斷。 

PVD 鍍膜工藝起源于國(guó)外，在行業(yè)發(fā)展初期，鍍膜設(shè)備和鍍膜材料的配套以國(guó)外廠商為主。國(guó)外 PVD 鍍膜材料廠商的鍍膜材料經(jīng)過(guò)與下游客戶的鍍膜設(shè)備、鍍膜工藝的長(zhǎng)期磨合，各項(xiàng)性能指標(biāo)與客戶的匹配性已較好，具有較強(qiáng)的先發(fā)優(yōu)勢(shì)，因此，長(zhǎng)期以來(lái)全球 PVD 鍍膜材料研制和生產(chǎn)主要集中于美國(guó)、日本和德國(guó)少數(shù)公司，產(chǎn)業(yè)集中度較高。