真空技術也屬于化學的一種，通過傳輸介質形成真空鍍膜加工技術。真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。它以真空技術為基礎，采用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻、磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供了一種制備薄膜的新工藝。

真空鍍膜采用磁控離子濺射、多弧離子鍍等先進的綠色真空鍍膜技術。其基本原理是:在真空室中，利用電弧(或輝光)放電產生的能量直接蒸發(fā)(或濺射)和電離目標(金屬或鈦合金等)產生金屬離子。事實上，真空鍍膜技術和光學鍍膜技術有點不同，對吧?光學鍍膜是指在光學零件表面鍍上一層(或多層)金屬(或介質)膜的過程。光學零件表面涂層的目的是降低或增加對光線的反射、分裂、分色、濾波和偏振的要求。真空鍍膜是指在高真空狀態(tài)下加熱金屬或非金屬材料，使其在鍍膜部件(金屬、半導體或絕緣體)表面蒸發(fā)凝結成膜的方法。