在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用中，鍍膜材料是通過(guò)不同靶材料中的不同稀有金屬形成不同光學(xué)鍍膜材料的核心技術(shù)。真空鍍膜主要是指需要在較高的真空下鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等多種鍍膜方式，用物理或化學(xué)方法鍍膜單層或多層透明介質(zhì)膜，可以利用薄膜表面的上下相生或相消干涉，使反射光增加或減少，達(dá)到增反射或減反射的效果。

光學(xué)膜吸收介質(zhì):方法可以是正常的制服,也可以是不均勻,鍍膜的實(shí)際應(yīng)用比理想的電影要復(fù)雜得多,這是因?yàn)?制備、薄膜的光學(xué)特性和物理特性從大塊的材料,表面和界面粗糙,導(dǎo)致大量的光散射,光學(xué)薄膜器件包括反射膜、增透膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等。它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和國(guó)防建設(shè)中得到了廣泛的應(yīng)用，越來(lái)越受到科技工作者的重視。