光學(xué)鍍膜器件包括反射膜、增反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等。它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和國(guó)防建設(shè)中得到了廣泛的應(yīng)用，越來(lái)越受到科技工作者的重視。真空鍍膜高性?xún)r(jià)比、低污染的特點(diǎn)將成為表面處理行業(yè)的主流技術(shù)。一方面，表面處理技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)是向低能耗、無(wú)污染技術(shù)方向發(fā)展，真空鍍膜技術(shù)依靠其環(huán)保、節(jié)能、安全可控的特點(diǎn)，配合國(guó)家可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略，真空鍍膜工藝起源于國(guó)外，基于先發(fā)優(yōu)勢(shì)和大量研發(fā)資金投入，優(yōu)先企業(yè)在全球真空鍍膜設(shè)備研發(fā)和生產(chǎn)市場(chǎng)仍處于優(yōu)先地位。蒸發(fā)鍍膜還可以應(yīng)用于許多產(chǎn)品，如:手機(jī)塑料結(jié)構(gòu)件、智能家居、數(shù)碼產(chǎn)品、化妝品包裝、工藝品、玩具、酒類(lèi)包裝及電子元器件等產(chǎn)品。

　　鍍膜的厚度從幾百埃到幾微米不等。鍍膜的厚度取決于源的蒸發(fā)速率和時(shí)間以及源與基片之間的距離。對(duì)于大面積涂層，通常采用旋轉(zhuǎn)基板或多個(gè)蒸發(fā)源來(lái)保證涂層厚度的均勻性。