在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用中，涂層靶材是核心技術(shù)。不同的靶材中含有不同的稀有金屬，形成不同的光學(xué)鍍膜。常用的稀有金屬包括氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、鎵、硒等金屬。銅、鉬、硅、鍺等金屬被廣泛應(yīng)用于反射鏡的光學(xué)鍍膜中。鍺、砷化鎵和硒化鋅廣泛應(yīng)用于輸出和傳輸光學(xué)元件中。

光學(xué)鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面。它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，采用物理或化學(xué)方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻、磁控管等一系列新技術(shù)制備薄膜的新工藝。簡(jiǎn)言之，它是一種在真空中蒸發(fā)或?yàn)R射金屬、合金或化合物，使其固化并沉積在涂層物體（稱為基材、基材或基材）上的方法。

真空鍍膜技術(shù)廣泛應(yīng)用于塑料制品中。塑料具有易成型、成本低、重量輕、無腐蝕等特點(diǎn)，因此塑料制品得到了廣泛的應(yīng)用，但其不美觀、易老化、力學(xué)性能差、耐熱性和吸水性差等缺點(diǎn)制約了其應(yīng)用范圍的擴(kuò)大。

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