鍍膜材料呈連續(xù)狀態(tài)的較大特點依然是表現出各種性質對膜55% B 56°C ;厚的依賴性，而且在許多情況下，這種依賴性與溫度有很大關系，即溫度越低，現象越明顯。

　　高真空蒸鍍的鍍膜，與膜厚的關系甚小，而且在某個膜厚以56%下，經過一個小的較大值后將迅速減小。不過月前尚不大清t 416K/s楚這種現象發(fā)生的原因。圖5-10是Cu蒸鍍膜相對于塊狀體的Cu導線在273K測定的熱電動勢值對于膜厚的倒數畫出的曲線[14]。由圖可知,薄膜和塊狀體不同，具有明顯的依賴膜厚的傾向。

　　進打送忤以什無11起怕習型柜的。在薄膜的表面存在電子散射，即表面散射。根據這種效應說明薄膜的電學性質隨膜厚的變化，目前已有幾種模型。我們主要討論其中的重要一種。表面散射概念認為電子在表面處于完全喪失過去記憶的一-種形態(tài)，并從而引進鏡而反射系數這一新概念。下面以理論為中心敘述連續(xù)薄膜輸運現象的處理梗概。

　　對于式(5-20)，忽酪指數函數前的表示項，而注意其中的p，該值對于真空大多為1~5eV左右，而對于絕緣物質多為1eV。所以按照前述理論，電子更容易通過基底?，F在普遍認為在非連續(xù)薄膜中，電子是通過基底進行傳導的。